600 nm 공정: 두 판 사이의 차이

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{{반도체 제조 공정}}
 
'''600 nm([[나노미터]]) 공정''' 또는 '''0.6 µm([[마이크로미터]]) 공정'''은 회로선 폭이 600 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1994년에서 1995년 경 [[인텔]], [[IBM]]과 같은 반도체 회사가 달성한 반도체 공정의 기술 수준을 말한다달성하였다.
 
==600 나노미터 제조 공정을 적용한 제품==