10 µm 공정
10 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 10 µm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 1971년에서 1972년 경 인텔과 같은 반도체 회사가 달성하였다.
10 마이크로미터 제조 공정을 적용한 제품 편집
각주 편집
- ↑ “History of the Intel Microprocessor - Listoid”. 2015년 4월 27일에 원본 문서에서 보존된 문서. 2015년 4월 19일에 확인함.
- ↑ “History of the Intel Microprocessor - Listoid”. 2015년 4월 27일에 원본 문서에서 보존된 문서. 2015년 4월 19일에 확인함.