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파일:Extreme ultraviolet lithography tool.jpg

원본 파일 ‎(713 × 605 픽셀, 파일 크기: 80 KB, MIME 종류: image/jpeg)

설명
English: EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.
날짜
출처 Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997, available from osti.gov.
저자 Lawrence Livermore National Laboratory
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날짜/시간섬네일크기사용자설명
현재2011년 9월 23일 (금) 03:192011년 9월 23일 (금) 03:19 판의 섬네일713 × 605 (80 KB)Bomazi{{Information |Description ={{en|1=EUVL tool, that deposits virtually defect-free, ultra-thin films on integrated circuits.}} |Source =''Laser Programs, the first 25 years, 1972-1997'', available from [http://www.osti.gov/bridge/product.biblio.

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