대문
임의의 문서로
근처
로그인
설정
기부
위키백과 소개
면책 조항
검색
틀
:
반도체 제조 공정
언어
주시
편집
반도체
소자
제조
MOSFET 스케일링
(
공정 노드
)
0
10 µm
– 1971
00
6 µm
– 1974
00
3 µm
– 1977
1.5 µm
– 1981
00
1 µm
– 1984
800 nm
– 1987
600 nm
– 1990
350 nm
– 1993
250 nm
– 1996
180 nm
– 1999
130 nm
– 2001
0
90 nm
– 2003
0
65 nm
– 2005
0
45 nm
– 2007
0
32 nm
– 2009
0
22 nm
– 2012
0
14 nm
– 2014
0
10 nm
– 2016
00
7 nm
– 2018
00
5 nm
– 2020
00
3 nm
– 2022
미래
00
2 nm
– 2024
하프 노드
집적도
CMOS
소자
(
멀티게이트
)
무어의 법칙
반도체
산업
나노전자
v
•
d
•
e
•
h
틀 설명문서
[
만들기
] [
새로 고침
]
이 틀에 대한 수정 연습과 시험은 연습장
(
만들기
|
미러
)
과 시험장
(
만들기
)
에서 할 수 있습니다.
분류는
/설명문서
에 넣어주세요.
이 틀에 딸린 문서
.